H05H 1/00 - Получение плазмы; управление плазмой

---

1/02

.

устройства для удерживания (ограничения) плазмы электрическим и(или) магнитным полем; устройства для нагрева плазмы (электронная оптика H01J)

1/03

.

.

с использованием электростатических полей [3]

1/04

.

.

с использованием магнитных полей, образованных разрядами в плазме

1/06

.

.

.

устройства для продольного сжатия канала плазмы

1/08

.

.

.

устройства для "тета" - сжатия канала плазмы

1/10

.

.

с использованием только внешнего магнитного поля

1/11

.

.

.

остроконечной конфигурации (H05H 1/14 имеет преимущество) [3]

1/12

.

.

.

в которых камера удерживания плазмы образует замкнутую петлю, например стелларатор

1/14

.

.

.

в которых камера удерживания плазмы прямая и имеет магнитные зеркала

1/16

.

.

с использованием внешних электрических и магнитных полей

1/18

.

.

.

со сверхвысокочастотными полями, например в диапазоне сантиметровых волн

1/20

.

.

резистивный нагрев

1/22

.

.

инжекционный нагрев

1/24

.

генерирование плазмы [2]

1/26

.

.

плазменные горелки [2]

1/28

.

.

.

устройства для охлаждения [3]

1/30

.

.

.

с использованием внешних электромагнитных полей, например высокой и сверхвысокой частоты ( H05H 1/28 имеет преимущество) [3]

1/32

.

.

.

с использованием дуги (H05H 1/28 имеет преимущество) [3]

1/34

.

.

.

.

конструктивные элементы, например электроды, сопла [3]

1/36

.

.

.

.

.

схемы (H05H 1/38,H05H 1/40 имеют преимущество) [3]

1/38

.

.

.

.

.

направление или центрирование электродов [3]

1/40

.

.

.

.

.

с использованием внешних магнитных полей, например для фокусирования или вращения дуги [3]

1/42

.

.

.

.

с обеспечением введения материалов в плазму, например порошка, жидкости (электростатическое распыление, распылители с устройствами для образования заряда в распыляемой струе электрическими средствами B05B 5/00) [3]

1/44

.

.

.

.

с использованием более чем одной горелки [3]

1/46

.

.

с использованием внешних электромагнитных полей, например высокой или сверхвысокой частоты (H05H 1/26 имеет преимущество) [3]

1/48

.

.

с использованием дуги (H05H 1/26 имеет преимущество) [3]

1/50

.

.

.

и с использованием внешних магнитных полей, например для фокусирования или вращения дуги [3]

1/52

.

.

с использованием взрывающихся проводов или разрядников (H05H 1/26 имеет преимущество; разрядники вообще H01T) [3]

1/54

.

ускорители плазмы [3]